申请号：

200810118964

申请日：

2008/08/27

公开日：

2010/03/03

公告日：

公开号：

101662123

公告号：

授权日：

授权公告日：

专利类别：

发明

国别省市代码：

11[中国|北京]

代理机构代码：

11021[]

代理人：

周国城

发明名称：

一种抑制垂直腔面发射激光器发散角的方法

国际分类号：

H01S 5/183

范畴分类号：

发明人：

郑婉华;刘安金;邢名欣;渠宏伟;陈微;周文君;陈良惠

申请人：

中国科学院半导体研究所

申请人地址：

北京市海淀区清华东路甲３５号

邮编：

100083

文摘：

本发明公开了一种抑制垂直腔面发射激光器发散角的方法，该方法是通过在氧化限制型的垂直腔面发射激光器的上ＤＢＲｓ表面刻蚀空气孔图形来实现的。利用本发明，能够有效地抑制垂直腔面发射激光器的发散角，提高垂直腔面发射激光器的性能。