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首页 > 北京重点领域发明专利数据库 > 激光技术
一种单模高功率垂直腔面发射激光器及其制作方法
来源 : 北京市科技情报研究所
 

申请号:

200810119581

申请日:

2008/09/03

公开日:

2010/03/10

公告日:

公开号:

101667715

公告号:

授权日:

授权公告日:

专利类别:

发明

国别省市代码:

11[中国|北京]

代理机构代码:

11021[]

代理人:

王波波

发明名称:

一种单模高功率垂直腔面发射激光器及其制作方法

国际分类号:

H01S 5/183;H01S 5/187;H01S 5/343

范畴分类号:

发明人:

渠红伟;郑婉华;刘安金;王科;张冶金;彭红玲;陈良惠

申请人:

中国科学院半导体研究所

申请人地址:

北京市海淀区清华东路甲35号

邮编:

100083

文摘:

本发明是一种单模高功率垂直腔面发射激光器,属半导体光电子领域。其特征在于,包括P型电极(1),P型Si衬底(2),金属键合层(3),P型分布布拉格反射镜(DBR)(4),氧化限制层(5),有源区(6),N型DBR(7),SiO↓[2]掩膜(8),聚酰亚胺或苯并环丁烯(BCB)(9),N电极(10),光子晶体(11),出光窗口(12)。在该结构的垂直腔面发射激光器中引入光子晶体,可增大氧化孔径,提高单模输出功率,同时采用键合技术将传统VCSEL外延片转移到Si衬底上和采用底部出光的设计,便于拉近VCSEL外延片有源区与Si衬底的距离,改善器件热学特性,进一步提高单模输出功率。

 
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