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| 来源 : 北京市科技情报研究所 |
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申请号: |
200810119581 |
申请日: |
2008/09/03 |
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公开日: |
2010/03/10 |
公告日: |
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公开号: |
101667715 |
公告号: |
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授权日: |
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授权公告日: |
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专利类别: |
发明 |
国别省市代码: |
11[中国|北京] |
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代理机构代码: |
11021[] |
代理人: |
王波波 |
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发明名称: |
一种单模高功率垂直腔面发射激光器及其制作方法 |
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国际分类号: |
H01S 5/183;H01S 5/187;H01S 5/343 |
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范畴分类号: |
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发明人: |
渠红伟;郑婉华;刘安金;王科;张冶金;彭红玲;陈良惠 |
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申请人: |
中国科学院半导体研究所 |
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申请人地址: |
北京市海淀区清华东路甲35号 |
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邮编: |
100083 |
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文摘: |
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本发明是一种单模高功率垂直腔面发射激光器,属半导体光电子领域。其特征在于,包括P型电极(1),P型Si衬底(2),金属键合层(3),P型分布布拉格反射镜(DBR)(4),氧化限制层(5),有源区(6),N型DBR(7),SiO↓[2]掩膜(8),聚酰亚胺或苯并环丁烯(BCB)(9),N电极(10),光子晶体(11),出光窗口(12)。在该结构的垂直腔面发射激光器中引入光子晶体,可增大氧化孔径,提高单模输出功率,同时采用键合技术将传统VCSEL外延片转移到Si衬底上和采用底部出光的设计,便于拉近VCSEL外延片有源区与Si衬底的距离,改善器件热学特性,进一步提高单模输出功率。 |
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