申请号：

200910081398

申请日：

2009/04/03

公开日：

2009/10/07

公告日：

公开号：

101550530

公告号：

授权日：

授权公告日：

专利类别：

发明

国别省市代码：

11[中国|北京]

代理机构代码：

11246[ ]

代理人：

童晓琳

发明名称：

激光脉冲沉积法制备白光光电导效应的掺铁碳薄膜材料

国际分类号：

C23C 14/06;C23C 14/28;H01L 31/0288;H01L 31/18

范畴分类号：

25F

发明人：

章晓中;万蔡华;高熙礼;张歆;吴利华

申请人：

清华大学

申请人地址：

北京市100084-82信箱

邮编：

100084

文摘：

本发明属于光学传感器和光电器件材料技术领域的激光脉冲沉积法制备白光光电导效应的掺铁碳薄膜材料。将Ｓｉ（１００）基片、高纯Ｃ靶以及Ｆｅ靶放入激光脉冲沉积设备的真空镀膜室内，抽真空至小于８×１０↑［－４］Ｐａ后，加热Ｓｉ基片至３５０℃～４５０℃，再用ＫｒＦ激光器脉冲轰击Ｆｅ靶，沉积Ｆｅ层薄膜，之后用ＫｒＦ激光器脉冲轰击高纯Ｃ靶，沉积Ｃ层薄膜，沉积结束后，保温退火１０ｍｉｎ～３０ｍｉｎ，让Ｆｅ原子扩散至Ｃ层中，自然冷却至室温，得到掺铁碳薄膜材料。采用激光脉冲沉积方法制备掺铁碳薄膜，方法简单，工艺稳定，可控性好，具有很高的制备效率。而且在薄膜沉积过程中，避免使用易燃易爆有毒的物质，附合环保要求。